合作信息
全自動(dòng)激光晶體生長(zhǎng)爐
發(fā)布單位:中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第二十六研究所
所屬行業(yè):新材料
合作信息類型:意向合作
機(jī)構(gòu)類型:科研院所
供求關(guān)系:供應(yīng)
合作信息期限:2016-1
參考價(jià)格:面議
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合作信息簡(jiǎn)介
【技術(shù)簡(jiǎn)介】為滿足國(guó)防軍工應(yīng)用,我所組織團(tuán)隊(duì)進(jìn)行高溫YAG,、LYSO、窗口材料等高溫晶體生長(zhǎng)設(shè)備的研發(fā),針對(duì)目前現(xiàn)有設(shè)備情況,集中力量解決設(shè)備智能化水平、高溫負(fù)壓控制技術(shù)、超低晶升技術(shù)、稱重?cái)?shù)據(jù)處理等技術(shù)難題,以晶體實(shí)時(shí)生長(zhǎng)速度為控制參量,解決在控制過(guò)程中出現(xiàn)的滯后、非線性控制問(wèn)題、實(shí)現(xiàn)在高壓、真空、負(fù)壓、高溫、流動(dòng)性氣氛等多種工藝下的感應(yīng)法、電阻法全自動(dòng)高溫晶體生長(zhǎng)工藝。可以滿足絕大多數(shù)晶體全自動(dòng)生長(zhǎng)需求。
【技術(shù)特點(diǎn)】系統(tǒng)采用智能化運(yùn)行,節(jié)省大量人力物力,提高生產(chǎn)效率;具備自診斷功能,針對(duì)各類型情況自動(dòng)判斷處理,安全防護(hù)性大大提高;產(chǎn)品工藝重復(fù)一致性提高。獨(dú)有的數(shù)據(jù)比對(duì)功能,便于數(shù)據(jù)分析和工藝的提升;獨(dú)有的數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng),提高系統(tǒng)控制的準(zhǔn)確性,更利于溫度場(chǎng)的穩(wěn)定;特有的晶體建模軟件,有利于各類型形狀晶體的穩(wěn)定控制和生長(zhǎng);超低拉速穩(wěn)定控制,有利于特種晶體的極低拉速穩(wěn)定生長(zhǎng);設(shè)備整體水平達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。
【技術(shù)指標(biāo)】
提拉有效行程: 550mm
提拉速度范圍: 0.1~100mm/min
旋轉(zhuǎn)速度范圍: 1~40r/min
手控升降速度: 1~100mm/min
稱重量程: 12kg,20kg30kg可選
中頻功率: 40kw,60kw,80kw可選
充氣壓力: 0~0.05MPa
爐膛尺寸:Φ600mm,Φ800mm,Φ1000mm,Φ1200mm可選
控制方式: 自動(dòng)、手動(dòng)線控
最低提拉速度:≤0.1mm/h
提拉系統(tǒng)突跳: 0.001mm(1mm/h)
稱重最小分度值: 10mg
中頻功率控制精度: 1‰
真空度:優(yōu)于進(jìn)入10-3Pa靜態(tài)測(cè)試
【技術(shù)水平】國(guó)際先進(jìn)
【可應(yīng)用領(lǐng)域和范圍】激光單晶爐主要用于生長(zhǎng)各類型人工晶體材料,通過(guò)晶體材料的開發(fā)可廣泛應(yīng)用于節(jié)能照明、集成電路開發(fā)、軍事技術(shù)、醫(yī)療檢測(cè)、安防、核醫(yī)學(xué)、高能物理、空間探測(cè)、暗物質(zhì)探測(cè)、紅外光學(xué)、半導(dǎo)體微電子工藝等諸多方向。
【專利狀態(tài)】已取得專利3項(xiàng)
【技術(shù)狀態(tài)】小批量生產(chǎn)、工程應(yīng)用階段
【合作方式】融資需求
【投入需求】1000萬(wàn)元
【轉(zhuǎn)化周期】2年
【預(yù)期效益】項(xiàng)目實(shí)施將打破國(guó)外技術(shù)封鎖、解決產(chǎn)業(yè)鏈中的裝備技術(shù)
關(guān)鍵、瓶頸問(wèn)題;目前,進(jìn)口的晶體材料生長(zhǎng)裝備的單價(jià)在三百五十萬(wàn)元以上,采用同類型我所自產(chǎn)設(shè)備,單臺(tái)可降低成本200萬(wàn),以批產(chǎn)50臺(tái)計(jì)算,可直接節(jié)約投資1億。隨著國(guó)內(nèi)各行業(yè)對(duì)高品質(zhì)人工晶體材料需求量的驟增,對(duì)各類型晶體材料的研究愈加重視,目前國(guó)產(chǎn)手動(dòng)或半自動(dòng)設(shè)備不能滿足現(xiàn)有要求,陸續(xù)會(huì)更新為全自動(dòng)設(shè)備,預(yù)計(jì)未來(lái)單晶爐設(shè)備的需求量在1000臺(tái)以上,將帶動(dòng)后端晶體材料市場(chǎng)的繁榮發(fā)展,預(yù)期直接間接效益超過(guò)千億。
【聯(lián)系方式】楊 柳023-62916218/15909360423
【技術(shù)特點(diǎn)】系統(tǒng)采用智能化運(yùn)行,節(jié)省大量人力物力,提高生產(chǎn)效率;具備自診斷功能,針對(duì)各類型情況自動(dòng)判斷處理,安全防護(hù)性大大提高;產(chǎn)品工藝重復(fù)一致性提高。獨(dú)有的數(shù)據(jù)比對(duì)功能,便于數(shù)據(jù)分析和工藝的提升;獨(dú)有的數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng),提高系統(tǒng)控制的準(zhǔn)確性,更利于溫度場(chǎng)的穩(wěn)定;特有的晶體建模軟件,有利于各類型形狀晶體的穩(wěn)定控制和生長(zhǎng);超低拉速穩(wěn)定控制,有利于特種晶體的極低拉速穩(wěn)定生長(zhǎng);設(shè)備整體水平達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。
【技術(shù)指標(biāo)】
提拉有效行程: 550mm
提拉速度范圍: 0.1~100mm/min
旋轉(zhuǎn)速度范圍: 1~40r/min
手控升降速度: 1~100mm/min
稱重量程: 12kg,20kg30kg可選
中頻功率: 40kw,60kw,80kw可選
充氣壓力: 0~0.05MPa
爐膛尺寸:Φ600mm,Φ800mm,Φ1000mm,Φ1200mm可選
控制方式: 自動(dòng)、手動(dòng)線控
最低提拉速度:≤0.1mm/h
提拉系統(tǒng)突跳: 0.001mm(1mm/h)
稱重最小分度值: 10mg
中頻功率控制精度: 1‰
真空度:優(yōu)于進(jìn)入10-3Pa靜態(tài)測(cè)試
【技術(shù)水平】國(guó)際先進(jìn)
【可應(yīng)用領(lǐng)域和范圍】激光單晶爐主要用于生長(zhǎng)各類型人工晶體材料,通過(guò)晶體材料的開發(fā)可廣泛應(yīng)用于節(jié)能照明、集成電路開發(fā)、軍事技術(shù)、醫(yī)療檢測(cè)、安防、核醫(yī)學(xué)、高能物理、空間探測(cè)、暗物質(zhì)探測(cè)、紅外光學(xué)、半導(dǎo)體微電子工藝等諸多方向。
【專利狀態(tài)】已取得專利3項(xiàng)
【技術(shù)狀態(tài)】小批量生產(chǎn)、工程應(yīng)用階段
【合作方式】融資需求
【投入需求】1000萬(wàn)元
【轉(zhuǎn)化周期】2年
【預(yù)期效益】項(xiàng)目實(shí)施將打破國(guó)外技術(shù)封鎖、解決產(chǎn)業(yè)鏈中的裝備技術(shù)
關(guān)鍵、瓶頸問(wèn)題;目前,進(jìn)口的晶體材料生長(zhǎng)裝備的單價(jià)在三百五十萬(wàn)元以上,采用同類型我所自產(chǎn)設(shè)備,單臺(tái)可降低成本200萬(wàn),以批產(chǎn)50臺(tái)計(jì)算,可直接節(jié)約投資1億。隨著國(guó)內(nèi)各行業(yè)對(duì)高品質(zhì)人工晶體材料需求量的驟增,對(duì)各類型晶體材料的研究愈加重視,目前國(guó)產(chǎn)手動(dòng)或半自動(dòng)設(shè)備不能滿足現(xiàn)有要求,陸續(xù)會(huì)更新為全自動(dòng)設(shè)備,預(yù)計(jì)未來(lái)單晶爐設(shè)備的需求量在1000臺(tái)以上,將帶動(dòng)后端晶體材料市場(chǎng)的繁榮發(fā)展,預(yù)期直接間接效益超過(guò)千億。
【聯(lián)系方式】楊 柳023-62916218/15909360423