透明導電薄膜是指那種對可見光的平均透過率高（T ≥80%）、電阻率低（ρ≤10-3Ωｃｍ）的薄膜，在太陽能電池、平板顯示器、薄膜晶體管、氣敏元件、抗靜電涂層等領域具有廣闊的應用前景。傳統的透明導電薄膜是指氧化銦錫(俗稱 ITO)，ITO 中其透過率和電阻率分別由 SnO2In2O3之比來控制，一般 SnO2:In2O3=1:9。由于銦是一種稀缺金屬，近年來人們一直在探索其他的替代材料。Zn 是地殼中蘊藏量較豐富的一種元素，本項目采用磁控濺射法和溶膠-凝膠法制備的摻鋁氧化鋅(AZO)透明導電薄膜，對可見光平均透過率大于 90％，電阻率低于 5×10-4Ωｃｍ，具有廣闊的應用前景。已發表科研論文十多篇。      技術特點：1.利用磁控濺射技術結合原位加熱方法，在玻璃襯底上生長高質量 AZO 薄膜；2.利用磁控濺射技術通過調節生長氣壓和射頻功率，在室溫下柔性襯底上制備高質量 AZO 薄膜；3采用對設備要求低、原材料價格低廉的溶膠-凝膠法制備技術；4. 特殊氣氛下熱處理技術；5. 場誘導結晶技術。      應用領域與前景：太陽能電池電極和觸摸顯示屏等的制備，替代進口產品，降低相關器件的制備成本。