當前真空表面改性技術，日益向集成化、多功能化的方向發展。本項目是在磁控濺射技術、多弧離子鍍技兩種鍍膜方法的基礎上，結合先進的全方位離子注入技術，進行等離子體復合表面改性的新技術。項目利用近年來我國防工業支持的航天飛行器表面改性技術的研究成果，結合國內外表面改性技術的最新發展，實現包括大閉環磁控濺射技術、全方位離子注入技術、彎曲電弧磁過濾技術的復合等離子體增強沉積。與傳統沉積技術相比，具備以下優點：（1）可以在膜與基體之間形成混合界面；（2）可在隨時對涂層進行摻雜、改善涂層結構和表面能；（3）提供一種方便易行的薄膜材料結構、成分控制手段、能夠在薄膜沉積過程中進行摻雜；為新型膜層的制備、提供便利條件；（4）能夠改變北京航空航天大學科研推廣項目匯編薄膜原有的形核生長模式；（5）能夠在傳統薄膜的基礎上獲得對薄膜進行進一步改性的薄膜，提高薄膜的硬度、抗氧化性、抗腐蝕性等；（6）能夠改善基片對薄膜的親和性，使得傳統工藝無法附著或者附著差的薄膜實現薄膜附著、并提高薄膜與基片的結合力。     項目的應用領域非常廣泛，目前已有的主要應用領域包括：     工模具：各種鉆頭；各種刀具，各種模具。高質量DVD光盤模具等。     裝飾膜層：衛生潔具、招牌等     硬質保護膜：眼鏡、表帶     光學膜：眼鏡、玻璃、光學器件，     電子領域：導電薄膜、電介質膜、半導體薄膜、傳感薄膜、磁性膜。     高性能薄膜：高sp3鍵的類金剛石膜、摻雜DLC膜、CN膜等。     高質量的工具：如PCB鉆頭。