技術開發單位：哈爾濱工業大學

　　技術簡介：多元等離子體基離子注入混合及多層復合膜技術，是在新一代表面改性設備DLZ-01型等離子體表面改性裝置上開發出來的最新表面改性技術，它綜合了目前流行的多種利用等離子體方法進行表面改性的先進技術，將磁控濺射離子鍍、多弧離子鍍及全方位離子注入技術結合在一起，形成一種新型的等離子體基表面改性技術。該技術已獲得國家發明專利。

　　該技術可以根據表面工程技術的具體要求，在不破壞真空的情況下，單獨或同時進行離子鍍或離子混合注入，如磁控濺射離子鍍、多弧離子鍍、全方位離子注入、等離子體化學熱處理、高壓脈沖輝光放電處理等。利用此裝置可獲得具有低溫（可以小于150℃）、尺寸精度高、結合力好的表面改性工藝，制取諸如單質金屬膜如Ti、Cr、Ni、Pt等；化合物膜如TiN、TiC、CrN等；單一元素離子注入如N、C、B等，多種元素同時注入如Ti、N、C等；并可以制取類金剛石碳膜(DLC)膜、多層膜或梯度膜等。獲得的表面改性層既具有普通離子鍍的優點，也具有多束混合技術或離子注入等的優點。

　　技術特點：該技術可以對復雜結構零件、精密零件、傳動件、各種滾動軸承、滑動接觸件、工具、模具、量具等進行批量處理，獲得滿足表面工程技術要求的耐磨、耐蝕、減摩或梯度要求的表面改性層。

　　技術指標：真空室體積700×700×1000mm；極限真空度2.5×10 Pa；五個磁控濺射靶或配五個多弧離子鍍靶。高壓脈沖電源：電壓2～100kV可調；脈沖寬度10～100微秒可調；脈沖重復頻率41～140赫茲。

　　可應用領域：適用于增強鋼鐵材料、鋁合金、鈦合金、高溫合金、無磁合金及其它非金屬材料的耐腐蝕性和耐磨性等。

　　聯系人及電話：鄒良玉  0451-86414460